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HiPIMS-高功率脈沖磁控濺射

DTVC5200

主要應用

高能沉積,提升金屬離化率,帶來更佳結合力和硬度。

高端品質,不破壞工件或刃口,涂層表面光潔致密。

靈活鍍膜,可濺射市面所有常見硬質涂層材料。

高效生產,單爐時間最快4.5h,更經濟、更靈活生產。

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